| 參考價 | ￥ 9000 |
| 訂貨量 | ≥1 件 |
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簡介
光學特性從反射和干涉影像中顯現出來。膜厚測量儀允許用戶從10nm到250μm分析光學圖層厚度。用戶可以觀察到一副圖層厚度分辨率達到0.1nm的單圖。根據用戶選擇的軟件，用戶可以分析單圖層或者小于二分之一的多圖層，并且可以測量圖層厚度和半導體加工影像或者增透涂料。
特點
·分析單一或者多層
·分辨率到0.1nm
·適用于原地，在線測量厚度
簡介
光學特性從反射和干涉影像中顯現出來。膜厚測量儀允許用戶從10nm到250μm分析光學圖層厚度。用戶可以觀察到一副圖層厚度分辨率達到0.1nm的單圖。根據用戶選擇的軟件，用戶可以分析單圖層或者小于二分之一的多圖層，并且可以測量圖層厚度和半導體加工影像或者增透涂料。
特點
·分析單一或者多層
·分辨率到0.1nm
·適用于原地，在線測量厚度
工作原理
兩個共同的通道用來測量膜層特征，光譜反射/傳播和橢圓偏光。膜厚測量儀利用反射原理來測量入射光到達樣品表面后從薄膜反射過來的波段。
通過n和k搜索
很多圖層可以被認定是一個薄膜的堆積。很多的薄膜和基地原料都能被金屬、電介質、非結晶或者水晶半導體。膜厚測量儀軟件包含一個巨大的n和k價值庫提供很多的普遍原料。用戶可以編輯和添加數據庫。同樣，用戶可以通過方程式編程或者散射公式自定義材料類型。
用途
膜厚測量儀適用于原地在線厚度檢測和移除速率應用程序，并且可以被用來檢測氧化物的膜厚度，碳化硅，光阻材料和其他半導體薄膜處理。膜厚測量儀可檢測增透膜涂層、耐摩擦涂層和粗糙涂層。
膜厚測量儀
NANOCALC-2000-UV-VIS-NIR | |
波長 | 250-1100nm |
厚度 | 10nm-70μm |
光源 | 氘燈和鹵素鎢燈 |
NANOCALC-2000-UV-VIS | |
波長 | 250-850nm |
厚度 | 10nm-20μm |
光源 | 氘燈和鹵素鎢燈 |
NANOCALC-2000-VIS-NIR | |
波長 | 400-110nm |
厚度 | 20nm-100μm |
光源 | 鹵素鎢燈 |
NANOCALC-2000-VIS | |
波長 | 400-850nm |
厚度 | 50nm-20μm |
光源 | 鹵素鎢燈 |
NANOCALC-2000-NIR | |
波長 | 650-1100nm |
厚度 | 70nm-70μm |
光源 | 鹵素鎢燈 |
反射計應用軟件，需求下面項目
NC-2UV-VIS100-2 | 兩支紫外光線 400μm×2m 2×SMA 連接器 靈活金屬包殼 |
NC-STATE | 單點反射測量非透明樣品 |
Step-Wafer | 5 Steps 0-500mm ，標定誤差 4’’ |
如果應用放大鏡，則需求下面的選項
NC-7UV-VIS200-2 | 反射探頭用MFA-C-Mount對顯微鏡的應用 |
Stop-Wafer | 5 Steps 0-500mm ，標定誤差 4’’ |
入射角 | 90° |
層數 | 3 或者 較少 |
附加測量需要 | Yes |
透明材料 | Yes |
傳輸模式 | Yes |
&, lt;, SPAN style="FONT-FAMILY: 宋體; COLOR: black; mso-ascii-font-family: 'Times New Roman'; mso-hansi-font-family: 'Times New Roman'; mso-bidi-font-size: 10.5pt">粗糙物料 | Yes |
測量速度 | 100ms-1s |
在線 | Yes |
機械公差（高度） | 新參考資料或者準直（74-UV） |
機械公差（角度） | Yes，有新的參考資料 |
微黑子選項 | Yes，有顯微鏡 |
視覺選項 | Yes，有顯微鏡 |
映射選項 | 6″和12″XYZ映射表格 |
真空 | Yes |
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