儀器為光譜型橢偏儀，它的設(shè)計緊湊、易于使用，可以精確測量膜層的厚度和折光系數(shù)。

薄膜厚度范圍：1納米 – 8 微米； 
厚度分辨率為0.1納米；
測量速度： 5 – 15秒；
重現(xiàn)性： cos(Delta) ±0.0003, tan(Psi) ± 0.0002 (Si上70納米SiO2)；
光譜范圍： 450納米 – 900納米(其他波長范圍可以選配)；
角度： 70° (其他角度可以選配)；
Mapping功能： 6”/12” 選配，準確度±10微米，光學(xué)編碼全自動控制；
光學(xué)顯微鏡： 不同放大倍數(shù)選配；
軟件： 一鍵厚度測量，易于使用，多等級用戶管理，多種數(shù)學(xué)模型構(gòu)建；

關(guān)于橢圓偏光法
橢圓偏光法是基于測量偏振光經(jīng)過樣品反射后振幅和相位的改變研究材料的性質(zhì)。光譜型橢偏儀在全部光譜范圍內(nèi)(而不是特定的波長)測量Psi和Delta，通過構(gòu)建物理模型對數(shù)據(jù)進行擬合分析，zui終得到膜厚、折光系數(shù)、吸收、粗糙度、組成比率等結(jié)果。