脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)、激光分子束外延設備(L-MBE) 設備簡介：
產(chǎn)地：美國NBM
脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)是將脈沖激光透過合成石英窗導入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成新材料。
我司PLD特點：
我們PLD系統(tǒng)擁有很好的性能價比,具有以下優(yōu)異的性能:
主真空室腔體直徑18英寸，本底真空可達高真空：9X10E-9 Torr（要用Load-lock）。
主真空室抽氣系統(tǒng)前級泵采用無油干泵
★基片加熱溫度高達1200℃。
基片臺可360度旋轉(zhuǎn)（轉(zhuǎn)速1-20rpm可調(diào)）。
★基片與靶之間方位采用靶在下方，基片在上方，均水平放置?；c靶間距沿Z軸（即垂直地面方向）可調(diào)。
6個裝靶的坩堝（或靶盤），各坩堝之間要求相互隔離，不互相污染。
★激光器：Coherent 公司COMPexPro 201：Wavelength: 248 nm (KrF)；Pulse Energy：700mJ；Max. Rep. Rate ：10 Hz；Energy stability (one sigma) : 1%； Average Power: 5W；Pulse Duration: 25 ns；Beam Dimensions(V×H): 24×10 mm；Beam Divergence(V×H): 3×1 mrad.
★Load Lock System一套（裝樣-送樣系統(tǒng)一套），采用transferengineering公司（Transfer Engineering and Manufacturing, Inc）的，本底真空1×10-5Pa，帶相應的分子泵。同一Load Lock系統(tǒng)既可以傳遞靶又可以傳遞基片，可兩者間切換操作。
設備及光學臺可聯(lián)接在一起，始終保持腔體和激光束位置穩(wěn)定。支撐腿帶可調(diào)節(jié)的轉(zhuǎn)輪，方便在地面整體（包括腔體系統(tǒng)和激光器）同時移動與固定。
具體配置:
一， 超高真空腔體
二， 分子泵
三， 激光掃描系統(tǒng)
四， 襯底加熱鉑金片，高達1200度
五， 基板加熱構(gòu)造設計
六， 基板加熱電源
七， Rheed
八， Rheed軟件
九， 多靶位 ，標準配置6個1英寸靶
十， Load-Lock樣品傳輸腔體
技術(shù)參數(shù)：
1. 靶：數(shù)量6個，大小1-2英寸，被激光照射時可自動旋轉(zhuǎn)，靶的選擇可通過步進電機控制。
2. 基板：采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達1200攝氏度，溫度差<3%，加熱時基板可旋轉(zhuǎn)，工作環(huán)境大壓力是300mtorr。
3. 基板加熱電源。
4. 超高真空成膜室腔體：不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-7 pa。
5. 樣品傳輸室：不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa。
6. 排氣系統(tǒng)：分子泵和干式機械泵，進口。
7. 閥門：采用超高真空擋板閥。
8. 真空檢測：真空計采用進口產(chǎn)品
9. 氣路兩套：采用氣體流量計（MFC）。
10. 薄膜成長監(jiān)控系統(tǒng)：采用掃描型Rheed（可差分抽氣）。
11. 監(jiān)控軟件系統(tǒng)：基板溫度的監(jiān)控和設定，基板和靶的旋轉(zhuǎn)，靶的更換。
12. 各種電流導入及測溫端子。
13. 其它各種構(gòu)造：各種超高真空位移臺，磁力傳輸桿，超高真空法蘭，超高真空密封墊圈，超高真空用波紋管等。
感謝河南師范大學國家重點實驗室, 清華大學*材料重點實驗室，北京大學微電子系 華中科技大學材料學院 使用此研究級高性能的PLD系統(tǒng)， 望我們高性能價格比的PLD為廣大科研人員提供幫助??！
