美國PE公司1980年就開始致力于電子行業(yè)使用的Plasma Etch PE-25等離子清洗器設(shè)備研發(fā)及相關(guān)服務(wù), 至今已成為全美*的等離子系統(tǒng)解決方案專業(yè)供應(yīng)商, 其旗下PE系列, BT大尺寸系列，大氣壓系列, PCB系列, Roll-to-Roll系列的發(fā)展歷史已經(jīng)超過了30年, 廣泛應(yīng)用于各大小型生產(chǎn)及研發(fā)實驗室, 超過8000套用戶。
美國PE公司1980年就開始致力于電子行業(yè)使用的等離子設(shè)備研發(fā)及相關(guān)服務(wù), 至今已成為全美*的等離子系統(tǒng)解決方案專業(yè)供應(yīng)商, 其旗下PE系列, BT大尺寸系列，大氣壓系列, PCB系列, Roll-to-Roll系列的發(fā)展歷史已經(jīng)超過了30年, 廣泛應(yīng)用于各大小型生產(chǎn)及研發(fā)實驗室, 超過8000套用戶?？蛻羧缑绹詈骄諲ASA, 波音Boeing, 霍尼韋爾Honeywell, 摩托羅拉Moto, 德國拜耳Bayer, 飛機(jī)企業(yè)洛克希德馬丁Lockheed-Martin, 及全美各大名校及科研院所如哈佛大學(xué), 麻省理工, 萊斯大學(xué), 橡樹嶺國家實驗室等等。
美國PE公司擁有等離子技術(shù)領(lǐng)域里很好的技術(shù), 憑借著多年研發(fā)和突破性創(chuàng)新, 先已擁有了多項技術(shù)*, 如*的溫控技術(shù)和*的靜電屏蔽技術(shù), 使其等離子設(shè)備能提供的處理效率, 均勻性和可靠性, 其刻蝕清洗效率是市面上其他等離子設(shè)備的三倍以上。
PE-25,PE-50,PE-75,PE-100,PE-200臺式等離子表面處理設(shè)備是專門針對于大學(xué),研究機(jī)構(gòu)和工廠研發(fā)設(shè)計的小批量樣品處理裝置, 性價比高,性能*,操作方便。
Plasma Etch PE-25等離子清洗器優(yōu)勢如下：
1. 真空腔室均采用航空特種鋁，研究表明采用這種特級鋁材的腔體材質(zhì)可以微調(diào)每個等離子體以保證整個處理過程的良號均勻性。性能遠(yuǎn)優(yōu)于傳統(tǒng)石英，玻璃或不銹鋼腔室
2. 腔體一體成型，無焊接縫隙, 具有非常好的耐用性和整體穩(wěn)定性。
3. 電容平行板設(shè)計, 高效均勻的等離子體產(chǎn)生方式。 腔體與電極之間的間隙可到63mm至140mm，可以輕松將大尺寸不規(guī)則實驗樣品放入腔體內(nèi)處理。
4. 操作簡便, 面板的操作部分，非傳統(tǒng)按鈕旋鈕控制的設(shè)計使得操作控制更加便捷和避免人為誤操作。一般操作人員在極短的時間內(nèi)就可以熟練操作，只需要幾分鐘就可上手掌握。
5. 安全保障：在小型設(shè)備中，*引入一鍵急停保護(hù)按鈕，當(dāng)參數(shù)設(shè)置有誤而設(shè)備已經(jīng)啟動的時候，可以快速終止實驗，以小程度降低因操作失誤而造成對樣品的損害。
6. *的粉體收集裝置，可以處理500~1000ML粉體
Plasma Etch PE-25等離子清洗器技術(shù)參數(shù)如下：
應(yīng)用領(lǐng)域如下：
目前設(shè)備廣泛應(yīng)用于：等離子清洗、刻蝕、改性、灰化、涂鍍和反應(yīng)離子刻蝕，在真空電子、LED、太陽能光伏、集成電路、生命科學(xué)、半導(dǎo)體科研、半導(dǎo)體封裝、芯片制造、MEMS器件等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。
