產(chǎn)品介紹
儀器簡介：
2006年12月一推出多功能平臺聚焦掃描微區(qū)Ｘ射線光電子能譜儀，立刻受到高?？蒲袉挝粴g迎。
國內(nèi)用戶有 南京大學(xué)分析中心 上海師范大學(xué) 天津46所
技術(shù)參數(shù)：
3、儀器主機(jī)功能與附件功能
3.1 單色化XPS，Al Kα，包括：
大面積XPS、小面積XPS、成像XPS、深度剖析XPS和角分辨XPS。
3.2 雙陽極XPS，Mg/Al Kα
3.3 紫外光電子能譜，UPS
3.4 高壓反應(yīng)室
3.5 分析室樣品冷/熱臺
4、儀器主要部件
4.1 超高真空分析室
180度半球能量分析器，
電子透鏡傳輸系統(tǒng)，
１６多通道電子檢測器
分子泵，離子泵，鈦升華泵
單色化XPS （AlKα）系統(tǒng)，含內(nèi)循環(huán)水冷卻裝置，
XPS成像系統(tǒng)，
雙陽極XPS系統(tǒng)，冷卻循環(huán)水和單色化系統(tǒng)共用
紫外光源，
荷電中和系統(tǒng)，用于絕緣樣品或?qū)щ娦圆畹臉悠返暮呻娧a(bǔ)償，
5軸樣品臺，
標(biāo)準(zhǔn)樣品托 ２個
Recessed樣品托 1個
氬離子槍，用于深度剖析，
熱雙燈絲離子規(guī)，
閉路電視顯微彩色攝像系統(tǒng)和SXI成像系統(tǒng)，
分析室和進(jìn)樣室都有獨(dú)立光纖照明系統(tǒng)，
可觀察視窗，視窗直徑10cm左右,
樣品熱/冷臺,溫度可監(jiān)測。
4.2 樣品進(jìn)樣室
機(jī)械泵，分子泵 熱雙燈絲離子規(guī),
可觀察視窗，視窗直徑10cm左右。
空氣壓縮機(jī)一臺，國內(nèi)采購
4.3 石英高壓反應(yīng)池
程序控溫系統(tǒng)
真空監(jiān)測系統(tǒng)
真空泵系統(tǒng)
進(jìn)出氣系統(tǒng),參考南京大學(xué)用戶設(shè)計建議。
壓力 一個大氣壓
全石英底座
密封材料 Byton O-ring
溫度 600度
遠(yuǎn)紅外線加熱控溫系統(tǒng)
單獨(dú)石英反應(yīng)器冷卻系統(tǒng)
4 樣品磁耦合傳輸系統(tǒng)
4.5 真空烘烤系統(tǒng)
4.6 主機(jī)系統(tǒng)集成，減震裝置。
4.7 計算機(jī)系統(tǒng)，含數(shù)據(jù)采集和數(shù)據(jù)處理軟件包。
4.8 與以上所有系統(tǒng)相關(guān)聯(lián)的電子學(xué)控制柜。
5、儀器主要技術(shù)參數(shù)與要求
5.1 儀器主機(jī)功能，單色化Al Kα
5.1.1 大面積XPS
Ag3d5/2，1400umx100um, FWHM≤1.00eV時，靈敏度≥1,000,000 cps。
Ag3d5/2，1400umx100um, FWHM≤0.60eV時，靈敏度≥250,000 cps。
5.1.2 小面積XPS，小分析面積≤10μm ，性能指標(biāo)應(yīng)達(dá)到：
Ag3d5/2，20μm， FWHM≤0.60eV時，靈敏度≥15,000 cps。
Ag3d5/2，10μm， FWHM≤0.60eV時，靈敏度≥4,000 cps。
Ag3d5/2，10μm， FWHM≤1.00eV時，靈敏度≥12,000 cps。
Typical value for 100um and 20um at 75degree and 45degree
75degree
Ag3d5/2，20μm , FWHM≤0.90eV時,靈敏度≥ 99kcps
Ag3d5/2，100μm , FWHM≤0.90eV時,靈敏度≥ 47kcps
45degree
Ag3d5/2，20μm , FWHM≤0.90eV時,靈敏度≥ 50kcps
Ag3d5/2，100μm , FWHM≤0.90eV時,靈敏度≥ 27kcps
5.1.3 成像XPS
單色化X射線掃描成像，空間分辨率≤10 μm。
5.1.4 深度剖析XPS
聚焦掃描氬離子槍，當(dāng)working distance為30 mm時.聚焦氬離子束斑≤150μm，當(dāng)
working distance為60mm時候，聚焦氬離子束斑≤300μm束流密度≥0.5 mA/cm2。
5.2 儀器附件功能
5.2.1 雙陽極XPS，MgKα，Ag3d5/2，F(xiàn)WHM≤1.40eV時，靈敏度≥1,000,000 cps。
5.2.2 紫外光電子能譜（UPS）
(a) 光源：He紫外光源，HeI:HeII=3:1
(b) 性能指標(biāo)：分辨率（Ag費(fèi)米邊）≤120 meV時，靈敏度（Ag4d）≥2,000,000 cps。
(c) 小步長：5meV
5.2.3 高壓反應(yīng)室
(a) 材質(zhì)：石英
(b) 內(nèi)膽內(nèi)壓強(qiáng)：≥760Torr
(c) 溫度，≥600℃
(d) 氣體混合倉附計量裝置，包括壓力表、流量計和針閥等。
5.2.4 分析室樣品冷/熱臺，溫度：170 K–600 K，溫度可檢測，加熱PID控制。
5.3 儀器主要部件參數(shù)與要求：
5.3.1 能量分析器
(a) 類型：半球能量分析器
(b) XPS能量范圍： 0–1600 eV（25 meV）
UPS ：0～320 eV（5 meV）
5.3.2 超高真空分析室
(a) SUS材質(zhì)內(nèi)表面經(jīng)過特殊處理
(b) 真空：小于6.7×10-10 mbar
5.3.3 樣品進(jìn)樣室
(a) 材質(zhì)：非磁性不銹鋼材料
(b) 真空：小于6.7×10-9 mba
5.3.4 深度剖析氬離子槍
100eV–5keV，連續(xù)可調(diào)，掃描型。
5.3.5 荷電中和系統(tǒng)：雙槍中和系統(tǒng)。
5.3.6 樣品控制臺
(a) 軸向：5軸，
(b) 移動：各向移動距離必須與樣品臺尺寸相匹配，步進(jìn)步長小于1μm，
(c) 傾斜：0–90°
5.3.7 計算機(jī)系統(tǒng)
(a) Pentium IV，CPU主頻3.0GHz左右；
(b) 內(nèi)存2G, 硬盤250 G；
(c) ２個DVD/CD-RW Combo光盤驅(qū)動器,
(d) 22" 液晶平板顯示器；
(e) 4個USB2.0接口；
(f) 100M以上以太網(wǎng)接口，用于數(shù)據(jù)傳輸；
(g) 預(yù)裝Windows XP正版軟件；
( h ) 預(yù)裝儀器操作軟件和數(shù)據(jù)分析軟件（含新的XPS數(shù)據(jù)庫），附安裝軟件光盤；
多功能平臺聚焦掃描微區(qū)Ｘ射線光電子能譜儀的主要特點(diǎn)：
1.掃描微聚焦X-射線source
2.掃描微聚焦X-射線產(chǎn)生的2次電子成像SXI像和XPS成像，可以幫助客戶找到肉眼看不見的微觀缺陷。
3?？梢越o出10um XPS sensitivity.其他公司不能。20um 的XPS sensitivity是其他公司同類產(chǎn)品的1倍以上。
