SPA2800H大氣低溫等離子清洗機(jī)
（1）產(chǎn)品簡(jiǎn)述
（1.1）等離子清洗的作用
等離子清洗的作用原理主要是：
（A）對(duì)材料表面的刻蝕作用--物理作用
等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了表面原有的污染物和雜質(zhì)，而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細(xì)坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤(rùn)濕性能。
（B）激活鍵能，交聯(lián)作用
等離子體中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV，因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂，等離子體中的自由基與這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結(jié)構(gòu)，大大地激活了表面活性。
（C）形成新的官能團(tuán)--化學(xué)作用
如果放電氣體中引入反應(yīng)性氣體，那么在活化的材料表面會(huì)發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，引入新的官能團(tuán)，如烴基、氨基、羧基等，這些官能團(tuán)都是活性基團(tuán)，能明顯提高材料表面活性。
（1.2）大氣低溫等離子清洗的優(yōu)勢(shì)
等離子清洗作為重要的材料表面改性方法，已經(jīng)在眾多領(lǐng)域廣泛使用。
與傳統(tǒng)的一些清洗方法，如超聲波清洗、UV清洗等，具有以下優(yōu)點(diǎn)：
（A）處理溫度低
處理溫度可以低至80℃、50℃以下，低的處理溫度可以確保對(duì)樣品表面不造成熱影響。
（B）處理全程無污染
等離子清洗機(jī)本身是很環(huán)保的設(shè)備，不產(chǎn)生任何污染，處理過程也不產(chǎn)生任何污染。
可以與原有生產(chǎn)流水線搭配，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)在線生產(chǎn)，節(jié)約人力成本。
（C）處理效果穩(wěn)定
等離子清洗的處理效果非常均勻穩(wěn)定，常規(guī)樣品處理后較長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)保持效果良好。
（D）可以*搭配自動(dòng)化流水線，提高生產(chǎn)效率
根據(jù)用戶現(xiàn)場(chǎng)需求，配置優(yōu)良的流水線生產(chǎn)方案，大大提高生產(chǎn)效率。
（1.2）產(chǎn)品原理
等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)主要分為三大組成部分，分別是高壓激勵(lì)電源、等離子發(fā)生裝置噴槍、控制系統(tǒng)。
（A）高壓激勵(lì)電源：
等離子體的產(chǎn)生需要高壓激勵(lì)，大氣低溫等離子采用中頻電源進(jìn)行激勵(lì)，頻率在10-40KHz。高壓則在4-10KV。參數(shù)根據(jù)樣品實(shí)際情況可進(jìn)行調(diào)節(jié)，已達(dá)到優(yōu)良的改性效果。
（B）等離子發(fā)生裝置噴槍：
大氣低溫等離子發(fā)生裝置噴槍，可分為射流直噴和旋轉(zhuǎn)直噴兩種，區(qū)別在于處理面積不同。
（C）控制系統(tǒng)：
控制系統(tǒng)作用在于控制整個(gè)大氣低溫等離子清洗設(shè)備的運(yùn)行，以及整體系統(tǒng)的保護(hù)。
（2）SPA2800H大氣低溫等離子清洗機(jī)
系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)配件 |
設(shè)備尺寸 | 560×186×452mm（寬×高×深） |
重量 | 20KG |
輸入電源 | 220V，50/60Hz |
功率 | 700-1200W可調(diào)； 高功率版本適用于50mm及70mm噴槍 |
高壓頻率 | 25-40KHz |
工作氣體 | 無水無油壓縮空氣；可選氬氣、氮?dú)獾?/span> |
保護(hù)防護(hù) | 過載保護(hù)、短路保護(hù)、斷路保護(hù)、溫度保護(hù) |
遠(yuǎn)程控制 | 本地控制與遠(yuǎn)程控制均可 |
噴槍選擇 |
旋轉(zhuǎn)噴槍 | 處理寬度直徑：50mm，可選70、30、20mm |
電纜線長(zhǎng)度 | 3500mm，可定制 |
（3）性能優(yōu)勢(shì)
v 德國(guó)電路技術(shù)：采用德國(guó)高壓激勵(lì)電源電路技術(shù)，產(chǎn)生高密度等離子體，確保出眾的清洗效果。
v 全面安全防護(hù)：溫度安全防護(hù)功能，過載防護(hù)功能，氣壓失常防護(hù)功能，短路斷路報(bào)警防護(hù)功能，各種誤操作保護(hù)功能。
v *放電技術(shù)：特殊處理及特殊結(jié)構(gòu)的放電裝置，確保形成穩(wěn)定均勻的等離子體。
v 搭配流水線生產(chǎn)：根據(jù)用戶現(xiàn)場(chǎng)需求，配置優(yōu)良的流水線生產(chǎn)方案，大大提高生產(chǎn)效率。
v 優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品部件：產(chǎn)品全部部件采用國(guó)內(nèi)外優(yōu)質(zhì)部件，確保設(shè)備性能*
v 低溫清洗：滿足不同場(chǎng)合溫度要求，不對(duì)清洗產(chǎn)品造成溫度影響
v 精密數(shù)控加工：進(jìn)口精密CNC數(shù)控機(jī)床加工工藝，并配備進(jìn)口三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x進(jìn)行質(zhì)量監(jiān)控
