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PLASMA-PREEN等離子清洗/蝕刻系統(tǒng)是一臺臺式微波等離子清洗機設備。等離子清洗機系統(tǒng)融合了下面的特點，并在眾多的應用領域中得到肯定。
產(chǎn)品特色
負載循環(huán)控制，模擬功率控制
處理機存儲
水冷底座
減少污水排放
安全保護設計
操作簡便 維護方便
PLASMA-PREEN等離子清洗/蝕刻系統(tǒng)是一臺臺式微波等離子清洗機設備。等離子清洗機系統(tǒng)融合了下面的特點，并在眾多的應用領域中得到肯定。
產(chǎn)品特色
負載循環(huán)控制，模擬功率控制
處理機存儲
水冷底座
減少污水排放
安全保護設計
操作簡便 維護方便
應用范圍：
混合電路板制造中基片的清洗
打線工藝前清洗電子部件，提高其可靠性
錫焊或焊接工藝前,關鍵性鍍金部件的清洗
清洗半導體元器件
光刻膠去膠
上膠、印刷和其它表面浸濕操作的表面準備
鍍膜前對光學器件清洗
清洗石英、藍寶石及其它材料
適用工藝：
打線墊清洗、減少金屬氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片墊；
去除光刻膠、塑料表面上膠處理、去除油漬或是環(huán)氧殘留物；
清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光學部件、清洗半導體表面、清洗鍍銀部件；
塑膠密封劑去除--失效模式分析
型號 | PPC862 | PPC973 |
反應艙尺寸(H*W*D) | 203mm x 152 mm x 50mm | 229 x 178 x 76 mm |
冷卻面(H*W) | 203 mm x 152 mm | 229 mm x 178 mm |
反應艙 | 方形艙體 | 方形艙體 |
反應艙材質 | 派熱克斯玻璃&鋁材 | 派熱克斯玻璃&鋁材 |
水冷式 | 水冷裝置 | 水冷裝置 |
負載比 | 10%至連續(xù)性 | 10%至連續(xù)性 |
標準流量 | 5cu-ft./Hr.@STP | 5cu-ft./Hr.@STP |
頻率(GHz) | 2.45 GHz | 2.45 GHz |
功率(Watts) | 100至750之間調節(jié) | 100至750之間調節(jié) |
重量 (Kg) | 29.5kg | 38.5kg |
真空泵系統(tǒng) | 抽氣速率3.8cfm/分 | 抽氣速率3.8cfm/分 |
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