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數(shù)據(jù)處理速度提升10倍 TDK光學(xué)新突破或成AI革命關(guān)鍵推手

2025-04-21 13:30:27來源：智能制造網(wǎng)整理關(guān)鍵詞：光學(xué)信號閱讀量：2041

　　日本電子元件巨頭TDK公司于當?shù)貢r間4月15日宣布，在光電融合領(lǐng)域取得革命性突破。

　　該公司研發(fā)的新型光子集成電路(Photonic IC)通過激光脈沖調(diào)制技術(shù)，成功實現(xiàn)每秒1.6太比特(Tbps)的數(shù)據(jù)傳輸速率，較現(xiàn)有電子半導(dǎo)體器件的處理速度提升達10倍以上。

　　這項名為"光子-電子混合集成技術(shù)"的創(chuàng)新，通過將光學(xué)信號傳輸與電子計算單元深度融合，突破了傳統(tǒng)半導(dǎo)體材料在數(shù)據(jù)傳輸速率和能耗上的物理極限。此外，該技術(shù)利用光子替代電子進行芯片間通信，使得單通道數(shù)據(jù)傳輸帶寬達到每秒1.6太比特，同時將能耗降低至傳統(tǒng)方案的1/5。

　　據(jù)TDK技術(shù)總監(jiān)小林健二在東京記者會上披露，該技術(shù)核心在于將傳統(tǒng)電子器件的電荷傳輸模式轉(zhuǎn)變?yōu)楣庾诱袷幠Ｊ剑捎锰厥庠O(shè)計的氮化鎵基半導(dǎo)體材料，成功將光信號調(diào)制時間壓縮至0.03皮秒級別，使數(shù)據(jù)延遲從現(xiàn)有系統(tǒng)的7.2納秒驟降至0.68納秒，同時能耗降低83%。

　　業(yè)內(nèi)人士認為，此次突破的關(guān)鍵在于TDK研發(fā)的新型光子晶體材料。

　　這種基于氮化鎵的納米結(jié)構(gòu)材料能夠在常溫下實現(xiàn)光子信號的高效調(diào)制，成功克服了光學(xué)元件體積過大、熱穩(wěn)定性差等長期困擾業(yè)界的難題。目前，該技術(shù)已在東京大學(xué)人工智能研究所的試驗平臺上完成驗證，在GPT-4級別大模型的參數(shù)更新環(huán)節(jié)展現(xiàn)出顯著優(yōu)勢。

　　市場研究機構(gòu)ABI Research首席分析師詹姆斯·布萊克曼評論稱："這標志著半導(dǎo)體工業(yè)從電子時代向光子時代的轉(zhuǎn)折點。如果TDK能在2025年如期實現(xiàn)量產(chǎn)，數(shù)據(jù)中心的基礎(chǔ)架構(gòu)將迎來根本性變革，大模型的訓(xùn)練周期有望從數(shù)月縮短至數(shù)周。"

　　據(jù)悉，TDK計劃與臺積電、三星電子等代工廠合作開發(fā)專用產(chǎn)線，首批樣品預(yù)計2024年第四季度交付。公司同時宣布將在北海道建設(shè)全球首座光子-電子混合芯片工廠，初期投資達12億美元。

　　野村證券半導(dǎo)體分析師佐藤隆預(yù)估，若TDK能在2025年前實現(xiàn)量產(chǎn)，全球AI芯片市場格局或?qū)⒚媾R重構(gòu)。

　　中國科技部則在最新發(fā)布的《AI基礎(chǔ)設(shè)施白皮書》中將光子芯片列為重點突破方向。分析人士認為，TDK的突破標志著全球半導(dǎo)體競賽已進入"后摩爾定律"的新階段，光電子融合技術(shù)或?qū)⒊蔀闆Q定未來AI產(chǎn)業(yè)領(lǐng)導(dǎo)權(quán)的關(guān)鍵賽道。

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