1. 設(shè)備用途:

KSD-0.02真空甩帶機(jī)是用來制備和開發(fā)亞穩(wěn)材料(如非晶態(tài)材料)的專用設(shè)備，該設(shè)備除了具有感應(yīng)爐的全部特點(diǎn)外，還具有制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實(shí)驗(yàn)工作,，廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學(xué)的開發(fā)與研究。

2. 設(shè)備配置：

設(shè)備有高真空腔室，高真空系統(tǒng)，甩帶收集裝置，穩(wěn)壓儲(chǔ)氣裝置，伺服甩帶裝置，坩堝升降裝置，感應(yīng)加熱裝置，水冷裝置等組成.

3. 主要技術(shù)參數(shù)

3.1.供電電源：三相五線 AC380V 50HZ 25KW

3.2.樣品***熔煉量：0-50g;

3.3.輥輪尺寸：φ220mmx40mm

3.4.單棍旋轉(zhuǎn)裝置：銅棍速度：1-3000r/min;（伺服電機(jī)控制無極調(diào)速）

3.5 甩帶升降：甩帶升降采用氣動(dòng)升降，帶手動(dòng)調(diào)節(jié)功能，可調(diào)節(jié)坩堝與銅滾的精確位置。

3.6.真空度：5.0x10-***a;（直聯(lián)泵+擴(kuò)散泵+擋板閥+復(fù)合真空機(jī)）

3.7.噴鑄甩帶熔煉電源功率：15KVA;

3.8.熔煉溫度：500℃-1700℃，滿足絕大多數(shù)實(shí)驗(yàn)要求;

3.9.熔煉坩堝：石英坩堝;

3.10.條帶寬度：1-10mm;

3.11.真空腔尺寸：￠500*400圓型腔室增加噴鑄功能

3.12.設(shè)備尺寸：2050*750*1850m（L*W*H）